The Extreme Physics Pushing Moore’s Law to the Next Level
Seeker · 5 recomendaciones en HN
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Seeker's Focal Point short documentary on ASML's extreme ultraviolet lithography machines, which make the most advanced chips. It shows how plasma-generated 13.5 nm light is used to push Moore's Law forward.
Por qué lo recomienda HN: HN links it in semiconductor threads as an accessible overview of why EUV lithography is so hard.
“Seeker released a very insightful feature about the ASML Extreme UV / soft X-ray (13.5 nanometers) photolithography system” Leer en HN ↗